Im Rahmen dieser Forschungsarbeit wurde eine Methode zur photochemischen Oberflächenmodifizierung von Poly(dimethylsiloxan) (PDMS) zu SiOx entwickelt, die anders als die bisher in der Literatur beschriebenen Verfahren (z.B. Pyrolyse, LB-Technik, PLD, Verwendung von Sauerstoffplasma) eine Verwendung in der Computer-to-Plate Driographie ermöglicht. Hierfür wurden drei Strahlungsquellen im UV- und Vakuum-UV-Bereich auf ihren möglichen Einsatz hin untersucht: Nd:YAG-Laser (266 nm), KrF*-Excimer-Laser (248 nm), Xe2*-Excimer-Lampe (172 nm). Die bestrahlten PDMS-Oberflächen wurden mit geeigneten Analysenmethoden untersucht, um Aufschluss über die chemischen und physikalischen Eigenschaften der PDMS-Oberflächen während und nach der Bestrahlung und den Mechanismus der Modifizierung zu gewinnen. Abschließend wurde die Möglichkeit einer Einbindung in den driographischen Druckprozess geprüft. Im Falle der Xe2*-Excimer-Lampe führten die Drucktests zu einem ansprechenden Druckbild.

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