-Material: Siliziumnitrid。
-Präzision: G5。
-Hohe Präzision, gute Verschleißfestigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit, hohe Zähigkeit und Korrosionsbeständigkeit, hohe Steifigkeit, nichtmagnetische Leitfähigkeit, elektrische Isolierung grün, glatte Oberfläche und leicht zu reinigen。
-Bei 800 ° C sind Festigkeit und Härte nahezu unverändert, und seine Dichte beträgt 320 g / cm3, was fast 1/3 des Gewichts von Lagerstahl entspricht, und die Zentrifugalkraft ist während der Rotation gering, wodurch eine hohe Geschwindigkeit erreicht werden kann Operation. Es hat auch selbstschmierende Eigenschaften und kann in Umgebungen mit hoher Verschmutzung ohne schmierende Medien verwendet werden. Anwendbar auf hochpräzise Hybrid-Keramiklager und Vollkeramiklager。
- Siliziumnitrid-Keramikkugeln sind Präzisionskeramiken, die bei hoher Temperatur in einer nicht oxidierenden Atmosphäre gesintert werden. Sie haben eine hohe Festigkeit, hohe Verschleißfestigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Säure- und Alkalibeständigkeit, können lange Zeit im Meerwasser verwendet werden und haben eine gute elektrische und magnetische Isolierung。
- Im Vergleich zu Stahl sind Siliziumnitrid-Keramikkugeln leichter als Stahl, haben einen kleinen Reibungskoeffizienten und eine gute sportliche Leistung, und ihr Elastizitätsmodul ist 50% größer als der von Stahl. Kann hohe Festigkeit und Härte vor 1000 ° aufrechterhalten, Korrosionsbeständigkeit, kein Rost, nicht magnetisch, kann unter der Bedingung ohne Ölschmierung arbeiten。
-Hohe Präzision, Maßtoleranz von ±00002 mm kann in feiner Umgebung mit hohem Standard verwendet werden。
-Anwendungsfeld:
Raffinationsofen, Hochtemperatur-Fördergerät, Inspektionsausrüstung, Draht- und Kabelproduktionslinie für medizinische Geräte, Halbleiter, LCD-Bildschirm, chemische Komplettausrüstung, Lebensmittelmaschinen, Beschichtungsausrüstung für Schweißproduktionslinien, Photovoltaikausrüstung, Lebensmittelausrüstung, Ätzausrüstung, verschiedene korrosive Förderausrüstung , LCD-Panels usw. Produktionsanlagen und deren interne Förderanlagen, Solarzellen-Produktionsanlagen, Förderanlagen in Reinräumen, Halbleiter, Vakuumbeschichtungsanlagen, Vakuummanipulatoren 。