Artikeldetails
Plasma chemistry of fluorocarbon rf discharges used for dry etching.
Haverlag, Marco:
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1991. 134 Seiten; Broschiert
Sprache: Englisch
Bestell-Nr: 1597062
Bemerkungen: Das hier angebotene Buch stammt aus einer teilaufgelösten wissenschaftlichen Bibliothek und trägt die entsprechenden Kennzeichnungen (Rückenschild, Instituts-Stempel...); Schnitt und Einband sind etwas staubschmutzig; der Buchzustand ist ansonsten ordentlich und dem Alter entsprechend gut. Text in ENGLISCHER Sprache!
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